SRM 2134 - 硅深度剖面标准中的砷植入

产品介绍

SRM 2134 - 硅深度剖面标准中的砷植入 标准品 旨在用于通过二次离子质谱 (SIMS) 分析技术校准对硅基质中微量和痕量砷的二次离子响应。 SRM 2134 用于校准 SIMS 仪器在特定仪器条件下对硅基质中砷的响应。它也可以被实验室用作校准硅中砷工作标准的转移标准。 SRM 2134 的一个单元由一个 1 cm × 1 cm 的单晶硅衬底组成，该衬底已被离子注入同位素 75As，标称能量为 100 keV。 SRM 2134 经认证可用于 75As 原子的保留剂量。剂量以每单位面积的砷质量单位表示。 SIMS 提供了关于砷原子浓度随地表以下深度变化的其他未经认证的信息。

认证浓度值：

 75As 原子的总保留剂量通过仪器中子活化分析确定。将两种独立制备的砷参考溶液（其中一种是 NIST SRM 3103a 砷标准溶液，经砷浓度认证）等分试样沉积在滤纸上，作为分析中的标准。由此产生的认证价值和 扩展的不确定性是

认证值的不确定度表示为扩展不确定度 U = kuc，其中 k 是 2.04 的覆盖因子，置信水平约为 95%，uc 是根据 ISO 指南 [1] 计算的组合标准不确定度.组合标准不确定度是从测量过程中导出或估计的单个标准不确定度的平方和的平方根。

 A 型和 B 型标准不确定度分量来自以下主要来源的测量不确定度：(1) 比较标准的浓度，(2) 样品和标准之间的中子注量暴露差异，(3) 测量复制，(4) 标准的计数统计，(5) 脉冲堆积，以及 (6) 衰减时间效应。所有已知的潜在不确定性来源都已被考虑 [2-4]。

处理、储存和使用说明

处理：SRM 2134 - 硅深度剖面标准中的砷植入 标准品  的植入面是抛光的反射面。该表面在包装前已清洁。使用前，应立即使用加压空气除尘器从表面清除灰尘颗粒。不建议在氢氟酸中蚀刻此 SRM，因为表面氧化物可能会去除一些砷。

储存：不使用时，SRM 应存放在其原始托盘中，并盖紧盖子。

用途：随着连续层被离子轰击去除，SIMS 可以通过监测一种或多种溅射离子种类，获得作为深度函数的材料成分信息。使用该技术时，通常使用与未知物质在同一基质中的相同物质的参考样品校准物质的浓度值